- 臺積電表示，將從2030年開始使用ASML的high-NA EUV裝置進行量產。
- 三星計劃最早於2028年採用high-NA EUV，英特爾則表示已使用該新裝置進行量產。
- 這些採用時間表使ASML的high-NA EUV系統成為AI晶片競賽中的關鍵製造平臺。
引述
“臺積電週二表示，將從2030年起使用ASML製造的全球最先進晶片製造裝置；三星電子計劃最早於2028年採用，英特爾則表示已使用這款新裝置進行量產。”
ASML高數值孔徑EUV系統迎來採用里程碑
Nikkei Asia ·
“臺積電週二表示，將從2030年起使用ASML製造的全球最先進晶片製造裝置；三星電子計劃最早於2028年採用，英特爾則表示已使用這款新裝置進行量產。”